當前位置：首頁 > 技術文章
在電子顯微鏡（電鏡）的微觀探索領域，圖像的清晰性和準確性至關重要。而電鏡防振臺作為保障電鏡穩(wěn)定運行的關鍵部件，其特殊的結構原理發(fā)揮著至關重要的作用。電鏡防振臺的主要目標是隔離外界振動對電鏡的干擾，為電鏡創(chuàng)造一個近乎“靜止”的工作環(huán)境。其結構...
光學膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標移動平臺，可以在幾秒鐘的時間內(nèi)快速的定位所需測試的點并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統(tǒng)可以很容易的自動轉換，匹配當前盒子的尺寸。49點的分布圖測量只需耗時約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時應配合其它檢測手段驗證測試結果的準確性，同時應使用去離子水作為分散介質，防止自來水中的電解質造成顆粒團聚影響...
Microsense電容式位移傳感器具有一般非接觸式儀器所共有的非接觸式特點外，還具有信噪比高，靈敏度高，零漂小，頻響寬，非線性小，精度穩(wěn)定性好，抗電磁干擾能力強和使用操作方便等優(yōu)點。目前，Microsense電容式位移傳感器在國內(nèi)研究所，高等院校、工廠等部門得到廣泛應用，成為科研、教學和生產(chǎn)中一種不能缺少的測試儀器。Microsense電容式位移傳感器的分類簡介：1、被動式：被動式位移傳感器為一種非接觸式精密位置傳感器?；谧非笞罴训木€性和穩(wěn)定性而設計，其測量帶寬高達20千...
晶圓鍵合的概述：由于光刻的延遲和功率限制的綜合影響，制造商無法水平縮放，因此制造商正在垂直堆疊芯片設備，含三維集成技術。由于移動設備的激增推動了對更小電路尺寸的需求，這已變得至關重要，但這種轉變并不總是那么簡單。三維集成方案可以采用多種形式，具體取決于所需的互連密度。圖像傳感器和高密度存儲器可能需要將一個芯片直接堆疊在另一個芯片上，并通過硅通孔連接，而系統(tǒng)級封裝設計可能會將多個傳感器及其控制邏輯放在一個重新分配層上。晶圓鍵合的業(yè)內(nèi)行情：EVGroup業(yè)務發(fā)展總監(jiān)ThomasU...
半導體晶圓（晶片）的直徑為4到10英寸（10.16到25.4厘米）的圓盤，在制造過程中可承載非本征半導體。它們是正（P）型半導體或負（N）型半導體的臨時形式。硅晶片是非常常見的半導體晶片，因為硅是蕞流行的半導體，這是由于其在地球上的大量供應。半導體晶圓是從錠上切片或切割薄盤的結果，它是根據(jù)需要被摻雜為P型或N型的棒狀晶體。然后對它們進行刻劃，以用于切割或切割單個裸片或方形子組件，這些單個裸片或正方形子組件可能僅包含一種半導體材料或多達整個電路，例如集成電路計算機處理器。劃刻并...
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。二、工作原理在加工芯片的過程中，光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經(jīng)物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經(jīng)過一次光刻的芯片可以...